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シリコンの単結晶成長、ウェハ加工やエピタキシ、SOIに始まり、シリコン結晶中への不純物拡散、イオン注入について詳しく解説されている。

技術開発の最前線において活躍してきた著者の観察と分析は示唆に富み、単結晶製造・ウェーハ加工に携わる人々はもとより、広く電子デバイスの研究・開発にかかわる研究者・技術者に必携の書である。